半导体工业

  近几年,半导体工业对臭氧应用方面表现出越来越大的兴趣。现阶段运用臭氧来清洁晶片的技术已建立,并且臭氧氧化水中的有机和金属污染物也被广泛利用。

  臭氧在半导体工业中的应用还有很多:

  + 湿法净化

  + TEOS

  + CVD(化学气相沉积)

  + 干燥法净化

  + 疏水性物质

  高性价比,使Anseros 臭氧系统减少了化学药剂的使用。

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相关关键字: 半导体,工业,臭氧应用,晶片清洁,金属污染物.

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