近几年，半导体工业对臭氧应用方面表现出越来越大的兴趣。现阶段运用臭氧来清洁晶片的技术已建立，并且臭氧氧化水中的有机和金属污染物也被广泛利用。

　　臭氧在半导体工业中的应用还有很多：

　　+ 湿法净化

　　+ TEOS

　　+ CVD(化学气相沉积)

　　+ 干燥法净化

　　+ 疏水性物质

　　高性价比，使Anseros 臭氧系统减少了化学药剂的使用。

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