HOXON ® 表面清洁技术

半导体行业清洁系统

  HOXON表面清洁系统使用的氧化物如臭氧O3、水H2O、过氧化氢H2O2、二氧化碳CO2和氮氧化物NOX的氧化性质来清洁表面以及保持洁净。

  领先的研究机构认为工业应用臭氧来氧化、杀菌和消毒是一种可持续方式:经过百万年的时间考验,臭氧是天然清洁剂。它在水中、空气、土壤,都不会留下卤代有机污染物,不像氯化物。

  HOXON表面清洁系统在半导体行业的应用:

  +硅片

  +没有金属进入的化学气相沉积的应用

  +硫醇的氧化,硫醚

  +有机总碳减少超纯净水

HOXON在线清洁系统(Clean-In-Place)

  相比起手动启动流体处理系统的清洁或消毒功能,在线清洁系统(CIP)的自动消毒过程有明显的优势,尤其是在重复性、可靠性、减少停机时间和在清洁性能记录等方面。

  当使用臭氧而不是化学品,例如过氧化氢或者氯气,此时优势将会更大更明显。臭氧是因为在使用点(POU)需要时才产生,省去了臭氧需要的储存和处理。

  优势:

  消毒更快

  臭氧的氧化能力强

  降低运营成本

  可重复和可靠的处理方法

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