HOXON表面清洁系统使用的氧化物如臭氧O3、水H2O、过氧化氢H2O2、二氧化碳CO2和氮氧化物NOX的氧化性质来清洁表面以及保持洁净。

　　领先的研究机构认为工业应用臭氧来氧化、杀菌和消毒是一种可持续方式：经过百万年的时间考验，臭氧是天然清洁剂。它在水中、空气、土壤，都不会留下卤代有机污染物，不像氯化物。

　　HOXON表面清洁系统在半导体行业的应用：

　　+硅片

　　+没有金属进入的化学气相沉积的应用

　　+硫醇的氧化，硫醚

　　+有机总碳减少超纯净水

　　相比起手动启动流体处理系统的清洁或消毒功能，在线清洁系统(CIP)的自动消毒过程有明显的优势，尤其是在重复性、可靠性、减少停机时间和在清洁性能记录等方面。

　　当使用臭氧而不是化学品，例如过氧化氢或者氯气，此时优势将会更大更明显。臭氧是因为在使用点(POU)需要时才产生，省去了臭氧需要的储存和处理。

　　优势：

　　消毒更快

　　臭氧的氧化能力强

　　降低运营成本

　　可重复和可靠的处理方法